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改性塑料試驗(yàn)設(shè)備

電壓擊穿試驗(yàn)儀耐電弧測(cè)試儀絕緣電阻試驗(yàn)儀電弱點(diǎn)試驗(yàn)儀電介質(zhì)充放電測(cè)試系統(tǒng) 高壓、低壓漏電起痕試驗(yàn)儀 50點(diǎn)耐壓測(cè)試儀

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HCLD-2絕緣材料表面漏電起痕性能測(cè)試儀

更新時(shí)間：2026-07-13

型號(hào)：HCLD-2

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華測(cè)儀器HCLD-2絕緣材料表面漏電起痕性能測(cè)試儀用以評(píng)價(jià)固體絕緣材料表面在電場(chǎng)和潮濕或污染介質(zhì)聯(lián)合作用下的耐漏電性能，測(cè)定其相比電痕化指數(shù) (CTI) 和耐電痕化指數(shù)(PTI) 。
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HCLD-2低壓相比電痕化指數(shù)測(cè)試儀

更新時(shí)間：2026-06-12

型號(hào)：HCLD-2

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華測(cè)儀器 HCLD-2低壓相比電痕化指數(shù)測(cè)試儀用以評(píng)價(jià)固體絕緣材料表面在電場(chǎng)和潮濕或污染介質(zhì)聯(lián)合作用下的耐漏電性能，測(cè)定其相比電痕化指數(shù) (CTI) 和耐電痕化指數(shù)(PTI) 。
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HCLD-2固體絕緣材料漏電起痕試驗(yàn)儀

更新時(shí)間：2026-04-17

型號(hào)：HCLD-2

瀏覽量：866

華測(cè)儀器HCLD-2固體絕緣材料漏電起痕試驗(yàn)儀用以評(píng)價(jià)固體絕緣材料表面在電場(chǎng)和潮濕或污染介質(zhì)聯(lián)合作用下的耐漏電性能，測(cè)定其相比電痕化指數(shù) (CTI) 和耐電痕化指數(shù)(PTI) 。
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HCLD-2100V~1000V低壓漏電起痕試驗(yàn)機(jī)

更新時(shí)間：2026-02-04

型號(hào)：HCLD-2

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100V~1000V低壓漏電起痕試驗(yàn)機(jī)HCLD-2 低壓漏電起痕試驗(yàn)儀是依據(jù) GB/T 4207-2003、IEC 60112、UL 746A、ASTM D3638、GB 4706.1、IEC 60335 等標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)制造的檢測(cè)設(shè)備，用于評(píng)估固體絕緣材料在電場(chǎng)與污染介質(zhì)（如0.1% NH?Cl溶液）聯(lián)合作用下的耐漏電性能，可準(zhǔn)確測(cè)定材料的相比電痕化指數(shù)（CTI）和耐電痕化指數(shù)（PTI）。
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低壓漏電起痕/絕緣材料測(cè)試儀

更新時(shí)間：2025-07-29

型號(hào)：

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低壓漏電起痕/絕緣材料測(cè)試儀是在固體絕緣材料表面上，在規(guī)定尺寸（2mm×5mm）的鉑電極之間，施加某一電壓并定時(shí)（30S）定高度（35mm）滴下規(guī)定液滴體積的污染液體（0.1%NH4CL），用以評(píng)價(jià)固體絕緣材料表面在電場(chǎng)和污染介質(zhì)聯(lián)合作用下的耐受能力，測(cè)定其相比電痕化指數(shù)（CT1）和耐電痕化指數(shù)（PT1）。
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HCLD-III*電子電工漏電起痕試驗(yàn)機(jī)測(cè)試儀器

更新時(shí)間：2025-06-06

型號(hào)：HCLD-III

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*電子電工漏電起痕試驗(yàn)機(jī)測(cè)試儀器HCLD-III為華測(cè)公司2013年產(chǎn)品之一，高壓漏電試驗(yàn)儀采用控制系統(tǒng)精度高，擯棄了現(xiàn)有的低壓切斷原原理，采用*的高壓真空切斷技術(shù)，使試驗(yàn)過(guò)程合理。采用5組電流傳感器用以控制每組試驗(yàn)的高壓切斷，使數(shù)據(jù)采集精確，同時(shí)本設(shè)備采用電力系統(tǒng)過(guò)壓過(guò)流保護(hù)裝置，使儀器。
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HCLD-III產(chǎn)品*漏電起痕測(cè)試儀器

更新時(shí)間：2025-06-06

型號(hào)：HCLD-III

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產(chǎn)品*漏電起痕測(cè)試儀器HCLD-III采用控制系統(tǒng)精度高，擯棄了現(xiàn)有的低壓切斷原原理，采用*的高壓真空切斷技術(shù)，使試驗(yàn)過(guò)程合理。采用5組電流傳感器用以控制每組試驗(yàn)的高壓切斷，使數(shù)據(jù)采集精確，同時(shí)本設(shè)備采用電力系統(tǒng)過(guò)壓過(guò)流保護(hù)裝置，使儀器an全。
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HCLD-III產(chǎn)品*電氣絕緣材料漏電起痕試驗(yàn)機(jī)

更新時(shí)間：2025-06-06

型號(hào)：HCLD-III

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產(chǎn)品*電氣絕緣材料漏電起痕試驗(yàn)機(jī)HCLD-III為華測(cè)公司2013年產(chǎn)品之一，高壓漏電試驗(yàn)儀采用控制系統(tǒng)精度高，擯棄了現(xiàn)有的低壓切斷原原理，采用*的高壓真空切斷技術(shù)，使試驗(yàn)過(guò)程合理。采用5組電流傳感器用以控制每組試驗(yàn)的高壓切斷，使數(shù)據(jù)采集精確，同時(shí)本設(shè)備采用電力系統(tǒng)過(guò)壓過(guò)流保護(hù)裝置，使儀器an全。
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